粗硅是指未经过纯化处理的硅材料，其主要成分为SiO2和杂质。干燥HCl气体是指通过去除其中水分和其他杂质，使其纯度达到一定标准的氢氯化氢气体。将粗硅与干燥HCl气体反应可以得到SiHCl3，它是一种重要的有机硅化合物，广泛应用于化学工业和电子工业中。

粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3的过程主要包括以下几个步骤：

1.将粗硅研磨成细粉末，并将其放入反应釜中。

2.在反应釜中加入干燥HCl气体，并控制反应釜中的温度和压力，使反应能够顺利进行。

3.粗硅与干燥HCl气体反应生成SiHCl3，反应的化学方程式为：

SiO2 + 4HCl → SiHCl3 + 2H2O

4.反应结束后，将反应釜中的产物进行分离和纯化，得到SiHCl3。

SiHCl3作为一种重要的有机硅化合物，广泛应用于化学工业和电子工业中。它可以用作制备其他有机硅化合物的原料，如硅烷、硅氧烷等。此外，SiHCl3还可以用于生产高纯度的硅材料，如单晶硅和多晶硅，这些材料在电子工业中具有重要的应用价值。

总之，粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3是一个重要的化学反应过程，它为有机硅化合物的生产和电子工业的发展做出了重要贡献。