201、需采用均凹法确定就位道的是
A 前牙缺失,牙槽嵴丰满,前突者
B 多个牙间隙缺失者
C 双侧后牙游离缺失,为加大基处远中倒凹设计,设计二型卡环者
D 手牙非游离缺失,为加大后方基牙远中倒凹,设计一型卡环者
E 后牙非游离缺失,缺隙一端基牙倒凹过大者
202、肯氏第三类缺失者,为了加大缺隙远中基牙的远中倒凹,以便设计
I 型卡一半,需将模型
A 平放
B 向左倾斜
C向右倾斜
D向前倾斜
E 向后倾斜
203、8765∣缺失的患者,可摘局部义齿修复时,应取
A 静态印模
B 功能性印模
C无压力印模
D解剖式印模
E 一次印模
204、21∣12 缺失,牙槽嵴丰富,设计可摘义齿修复。确定就位道时将模型向后倾斜的目的是
A 加大牙槽嵴唇侧倒凹
B 唇侧不加基托
C避免人工牙与 3∣3 之间出现大的间隙
D避免唇侧基托与牙槽嵴之间出现大的间隙
E 加大人工牙的覆盖
205、8765∣缺失,余留牙正常,局部义齿基牙应选
A43∣∣
B43∣4
C43∣45
D43∣47
E4∣47
206、876∣578 缺失,余留牙正常。设计局部义齿时,基牙可选择
A5∣36
B5∣26
C5∣46
D4∣4
E54∣4
207、8651∣678 缺失,余留牙正常,可摘局部义齿基牙应选择
A74∣5
B72∣5
C743∣45
D42∣4
E73∣5
208、86521∣168 缺失,余留牙正常。可摘局部义齿基牙应选择
A43∣ 57
B4∣57
C7∣47
D74∣ 57
E73∣ 5
209、一患者 6∣缺失, 75∣健康,缺隙正常。可摘局部义齿的支点线可以设计成
A斜线式
B直线式
C横线式
D纵线式
E平面式
210、一患者上颌局部义齿修复。初戴时,发现弯制的后腭杆离开腭粘膜
2mm。处理方法是
A不必处理
B腭杆组织面加自凝树脂重衬
C腭杆组织面缓冲
D去除腭肝,让患者将义齿戴走
E 邓下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
211、一患者8765∣678 缺失,戴局部义齿五年,主诉咀嚼效能差,无其他不适。最可能的原因是
A义齿固位差
B义齿稳定差
C基牙负担重
D人工牙过度磨耗
E义齿合高
212、一患者 8765∣缺失,可摘局部义齿戴用2 年后, 4∣舌侧塑料基托折断。检查发现,义齿游离端翘动,基他部位密合,处理方法是
A基托折断处重新粘固
B游离端基托组织面重衬
C基托折断处重新粘固,游离端基托组织面重衬
D基托折断处重新粘固,游离端人工牙减径
E重新下颌局部义齿修复
213、前牙三度深覆合患者,54∣126 缺失,基托贴合无翘动,但∣12 腭侧塑料基托反复折断。处理方法是
A重新粘固基托
B重新粘固基托并加厚
C后牙调合,粘固基托
D前牙高合,粘固基托
E腭侧托加金属网或改做金属基托
答案:
[A2 型题 ]
188B 189A 190B 191A 192D 193C 194B 195B
196A 197B 198C 199A 200B 201B 202E 203B
204C 205E 206C 207A 208A 209D 210E 211D
212C 213E